今天共享的是：光刻机产业深度系列专题论说（一）：“进制程环节要道，半导体修复明珠，光刻机阛阓迎国产化机遇(1)

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本论说聚焦光刻机产业，长远领悟其中枢性位、阛阓形状及国产化远景。光刻系芯片制造环节，借摩尔定律开动，依瑞利准则提高隔离率，28nm 为工艺环节节点。光刻机为半导体修复翘楚，光学系统资本占比达 30%，历经五代演进，结构复杂，集多学科前沿时刻，含光源、曝光、责任台等中枢系统及多扶持模块。环球阛阓范围雄壮且增长迅猛，2011 年达 257 亿好意思元，2022 - 2028 年 CAGR 有望达 6%，ASML 主导高端，Nikon、Canon 分据中低端，ASML 借高强度研发参预安靖上风。我国因晶圆厂扩产需求大增，然受好意思日荷闭塞，国产化大势所趋。国产程度中，上海微电子 600 系可量产 90nm 芯片，500 系后谈修复占国内 80%份额；科益虹源 193nm 激光器阻滞外洋支配；国望光学、国科精密、华卓精科等在光学系统与双工件台发扬显赫。产业链关连企业各具专长，茂莱光学赋能 I 线物镜，福晶科技拓展超精密光学业务，福光股份领衔特种光学镜头，腾景科技深耕合分束器研发，波长光电切入半导体镜头界限，永新光学供应精密仪器组件，蓝特光学鼓吹光刻机镜头研发，炬光科技供应光场匀化器并谋拓展，赛微电子担当 MEMS 代工与微镜供应要角。产业虽挑战重重，如国外时刻阻滞、国产落地逐渐、需求波动及出口管理风险，但国产阻滞晨曦已现，抓续改动、完善产业链将提高国产化水平，增强半导体产业自主可控力，助力行业阻滞发展瓶颈，于环球竞争中崭露头角，安靖产业政策地位，开动行业迈向更高层级。

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